반도체 제조공정 - Overview
반도체 제조공정 1탄 - Overview
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여기서 부터는 후공정 입니다.
사진으로 본 반도체 제조 공정의 간략한 소개였습니다.
전공정과 후공정은 clean room의 청정도, 작업방법, 작업 환경 등 여러가지 면에서 많은 차이가 있습니다.
하지만 이 모든것은 "수율의 최대화"란 것을 목표로 모든 작업이 이루어 지고 있습니다.
wafer의 size가 계속해서 커지고, chip의 size를 계속적으로 작게 만들려고 하는 이유도 "수율의 최대화"때문이죠.
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